集成電路ETF（159546）收漲1.2%，半導體設備需求增長獲關注

集成電路ETF（159546）收漲1.2%，半導體設備需求增長獲關注。

愛建證券指出，半導體設備領域薄膜沉積設備在前道工藝中價值量占比高（約22%），是晶圓擴產的核心設備之一，受新產線建設與既有產能擴充雙重拉動，需求有望持續增長。全球300mm晶圓廠投資預計2025年增長20%至1165億美元，中國大陸2025年-2027年年均投建規模有望保持在300億美元以上。中國廠商加速布局，如拓荊科技擬提升PECVD等設備產能，微導納米的ALD與高端CVD產品已切入國產存儲頭部客戶量產線，邏輯領域設備性能達國際先進水平。半導體行業產能擴張將帶動薄膜沉積設備需求上行。

集成電路ETF（159546）跟蹤的是集成電路指數（932087），該指數從市場中選取涉及半導體設計、制造、封裝測試及相關設備材料等業務的上市公司證券作為指數樣本，以反映集成電路行業相關上市公司證券的整體表現。該指數成分股具備高技術壁壘和成長性特征，側重于科技創新與高端制造領域配置，能夠較好地體現中國集成電路行業的發展趨勢。

注：如提及個股僅供參考，不代表投資建議。指數/基金短期漲跌幅及歷史表現僅供分析參考，不預示未來表現。市場觀點隨市場環境變化而變動，不構成任何投資建議或承諾。文中提及指數僅供參考，不構成任何投資建議，也不構成對基金業績的預測和保證。如需購買相關基金產品，請選擇與風險等級相匹配的產品?；鹩酗L險，投資需謹慎。